
Schnelle und genaue Analyse von Nanochichtungen
FT160SchreibtischXRFAnalyzer zur Messung von heutePCB-LeiterplattenKleine Teile an Halbleitern und Mikroverbindern. Die Fähigkeit, kleine Bauteile genau und schnell zu messen, hilft, die Produktivität zu steigern und kostspielige Nachbearbeitungen oder Komponentenausfall zu vermeiden.
FT160Polykapillare optische Komponenten können weniger als50 μmAusgezeichnet durch eine nanoskalierte Beschichtung, bietet Ihnen die fortschrittliche Detektortechnologie eine hohe Präzision, während die Messzeiten kurz bleiben. Weitere Funktionen wie ein großer Probenstand, eine breite Probenkabine, eine HD-Probenkamera und ein robustes Beobachtungsfenster ermöglichen es, Gegenstände unterschiedlicher Größen einfach zu laden und Interessenbereiche auf großen Substraten zu finden. Der Analysator ist einfach zu bedienen und mit IhremQA / QCDie nahtlose Integration von Prozessen warnt Sie vor Problemen.
Produkte Highlights
FT160Die Optik- und Detektortechnik ist speziell für die Analyse von Mikroflecken und ultradünnen Beschichtungen konzipiert und auf minimale Eigenschaften optimiert.
Großes Beobachtungsfenster zur Sicherung der Analyse aus sicherer Entfernung
Die Messmethode entsprichtnach ISO 3497undnach ASTM B568undnach DIN 50987Standard
IPC-4552BundIPC-4553AundIPC-4554undIPC-4556Konsistenzbeschichtungsprüfung
Automatische Charakterisierung für die schnelle Probeneinstellung
Auswahl der für Ihre Anwendung optimierten Analyzerkonfiguration
in weniger als50 μmMerkmale der Messung von Nano-Beschichtungen
Verdoppeln Sie den Analysefluss herkömmlicher Instrumente
Große Proben in verschiedenen Formen
Langlebige Konstruktion für langfristige Produktionen
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FT160 |
FT160L |
FT160S |
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Elementbereich |
Al-U |
Al-U |
Al-U |
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Detektoren |
Siliziumdriftdetektor(SDD) |
Siliziumdriftdetektor(SDD) |
Siliziumdriftdetektor(SDD) |
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XStrahlrohr Anode |
WoderMo |
WoderMo |
WoderMo |
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Öffnung |
Multikapillarer Fokus |
Multikapillarer Fokus |
Multikapillarer Fokus |
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Durchmessergröße |
30 μm bei 90%Stärke (Mo rohr) |
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35 μm bei 90%Stärke (W-Rohr) |
30 μm bei 90%Stärke (Mo rohr) |
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35 μm bei 90%Stärke (W-Rohr) |
30 μm bei 90%Stärke (Mo rohr) |
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35 μm bei 90%Stärke (W-Rohr) |
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XYAchsen Probe Tisch Prozess |
400 x 300 mm |
300 x 300 mm |
300 x 260 mm |
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Maximale Probengröße |
400 x 300 x 100 mm |
600 x 600 x 20 mm |
300 x 245 x 80 mm |
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Musterfokus |
Laserfokussierung und Autofokussierung |
Laserfokussierung und Autofokussierung |
Laserfokussierung und Autofokussierung |
