Atonarp Prozesssteuerung Massenspektrometer Aston ™ Technische Daten:
Universelle Werkzeuge zur Echtzeit-Prozesssteuerung, korrosionsbeständig, kondensationsbeständig
In-situ-Plattform zur molekularen Analyse für die Halbleiterherstellung, die Echtzeit-Daten liefert
Mit Plasma-Ionisierungsquelle, ohne Leitung, langlebiger
Vollständige Integration in Werkzeuge der Massenproduktion
Aston ™ Prozess-MassenspektrometerAls leistungsstarke Plattform kann eine Vielzahl von herkömmlichen Werkzeugen ersetzt werden und bietet ein beispielloses Maß an Kontrolle, einschließlich Lithographie, Elektrolyt- und leitfähiges Ätzen und Ablagern, Kammerreinigung, Kammerpassung und Auflösung.
Aston ™ Prozess-MassenspektrometerTechnische Parameter
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Typ |
Impact-300 |
Impact-300DP |
Plasma-200 |
Plasma-200DP |
Plasma-300 |
Plasma-300DP |
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Modellnummer |
AST3007 |
AST3006 |
AST3005 |
AST3004 |
AST3003 |
AST3002 |
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Qualitätsseparation |
Stufe vier |
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Vakuumsystem |
Molekularpumpe |
Molekularpumpe |
Molekularpumpe |
Molekularpumpe |
Molekularpumpe |
Molekularpumpe |
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Detektoren |
FC /SEM |
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Qualitätsbereich |
2-285 |
2-220 |
2-285 |
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Auflösung |
0.8±0.2 |
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Testgrenzen |
0.1 PPM |
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Betriebstemperatur |
15-35“℃ |
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Leistung |
350 W |
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Gewicht |
15 kg |
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Größe |
299 x 218 x 331 LxWxH(mm) |
400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
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Atonarp Aston™ Anwendungen: Wichtige Entwicklungen in der Halbleiterprozesssteuerung und -optimierung zur Steigerung von Ertrag, Durchsatz und Effizienz im Halbleiterherstellungsprozess
Aston ™ Ein kompaktes und robustes Online-Massenspektrometer für die Überwachung und Steuerung von Gasen in der Halbleiterherstellung und in Anwendungen der industriellen Prozesssteuerung mit hoher quantitativer Genauigkeit und Echtzeit in Kombination mit Robustheit und Zuverlässigkeit der Produktion, wie z. B. Abgasdetektion für Halbleitertrockenpumpen, Online-Überwachung und Diagnose.
CVD / ALD: Oxid-Nitrid-Übergang und Komponentenanalyse
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching: Identifizierung von Spurmolekulen

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